
尼康宣布全新ArF浸没式光刻机
尼康于2023年12月10日宣布,将于2024年1月正式推出ArF193纳米浸没式光刻机“NSR-S636E”。这款光刻机采用了增强型iAS设计,可用于高精度测量、圆翘曲和畸变校正,重叠精度(MMO)更高,号称不超过2.1纳米。NSR-S636E还采用了新
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2025-09-06




